Das IPS Muffelsystem besteht aus Muffellehre und -basis und dient zum Anstiften der modellierten Restaurationen. Das 100-g- und 200-g-Muffelsystem wird für IPS e.max Press, IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM verwendet; das 300 g Muffelsystem nur für IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM.
Die IPS Multi Muffelbasis 200 g wird beim Verarbeitungsprozess des IPS e.max Press Multi-Rohlings verwendet. Der Dorn weist Schlitze zur einfachen Positionierung von bis zu vier Modellationen auf.
Beschreibung
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Das IPS Muffelsystem besteht aus Muffellehre und -basis und dient zum Anstiften der modellierten Restaurationen. Das 100-g- und 200-g-Muffelsystem wird für IPS e.max Press, IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM verwendet; das 300 g Muffelsystem nur für IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM.
Die IPS Multi Muffelbasis 200 g wird beim Verarbeitungsprozess des IPS e.max Press Multi-Rohlings verwendet. Der Dorn weist Schlitze zur einfachen Positionierung von bis zu vier Modellationen auf.
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