Das IPS Muffelsystem besteht aus Muffellehre und -basis und dient zum Anstiften der modellierten Restaurationen. Das 100-g- und 200-g-Muffelsystem wird für IPS e.max Press, IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM verwendet; das 300 g Muffelsystem nur für IPS e.max ZirPress und IPS InLine PoM.

Die IPS Multi Muffelbasis 200 g wird beim Verarbeitungsprozess des IPS e.max Press Multi-Rohlings verwendet. Der Dorn weist
Schlitze zur einfachen Positionierung von bis zu vier Modellationen auf.